C10100 অক্সিজেন মুক্ত তামা এবং C10200 উচ্চ-বিশুদ্ধতা তামা শীট হ'ল তামা উপাদান পরিবারে বিশুদ্ধতা এবং পারফরম্যান্সের শিখর।
উভয়ই যথার্থ ইলেকট্রনিক্স, ভ্যাকুয়াম ডিভাইস এবং উচ্চ-প্রান্তের উত্পাদন ক্ষেত্রগুলিতে বহুল ব্যবহৃত বিভিন্ন মাধ্যমে বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা, প্রক্রিয়াজাতকরণ এবং পরিবেশগত অভিযোজনযোগ্যতার চূড়ান্ত ভারসাম্য উপলব্ধি করে।
C10100 অক্সিজেন ফ্রি তামা (OFHC):
মূল হিসাবে 99.99% তামা সামগ্রীর চেয়ে বেশি বা সমান, অক্সিজেন সামগ্রীটি 5ppm এর চেয়ে কম বা সমান এবং মোট অমেধ্যগুলি 1 0} পিপিএমের চেয়ে কম বা সমানভাবে ভ্যাকুয়াম গলনা এবং অঞ্চল গলানোর প্রযুক্তির মাধ্যমে নিয়ন্ত্রণ করা হয়। এর পরিবাহিতা 101% -103% আইএসিএসে পৌঁছে যায়, তাত্ত্বিক সীমাটির কাছাকাছি, এটি উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি ইন্ডাক্টর, সুপারকন্ডাক্টিং চুম্বক এবং ভ্যাকুয়াম ইলেক্ট্রন টিউবগুলির জন্য পছন্দসই উপাদান হিসাবে তৈরি করে। তাপীয় প্রসারণের (সিটিই) সহগটি 16.8 × 10- ⁶/ ডিগ্রি থেকে 400 ডিগ্রি থেকে 400 ডিগ্রি থেকে তাপমাত্রা জোনের মধ্যে স্থিতিশীল হয়। এটি সিরামিক, গ্লাস এবং অন্যান্য উপকরণগুলির সাথে দুর্দান্ত মিল রয়েছে এবং এটি মহাকাশযানে মাইক্রোওয়েভ ডিভাইস এনক্যাপসুলেশনের জন্য উপযুক্ত। পৃষ্ঠের রুক্ষতা আরএ 0.01μm এ প্রক্রিয়া করা যেতে পারে, যা ফোটোলিথোগ্রাফি মাস্ক প্লেট সাবস্ট্রেটের জন্য ন্যানোমিটার স্তরের ফ্ল্যাটনেসের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করে।
সি 10200 ডিওক্সিডাইজড কপার (ডিএলপি):
অক্সিজেন সামগ্রীটি ফসফরাস ডিওক্সিডেশন প্রক্রিয়াটির মাধ্যমে {{0}}। 0 03% এর চেয়ে কম হয়ে যায়, যখন ফসফরাস উপাদানগুলির 04% 04% ধরে রাখে, যা প্রিমিক্যালের অধীনে তাপমাত্রার অধীনে overicational টির মধ্যে উল্লেখযোগ্যভাবে উন্নত করে। এর নরমকরণ তাপমাত্রা 350 ডিগ্রি পৌঁছায়, সি 10100 এর তুলনায় 50 ডিগ্রি বৃদ্ধি করে, এটি গভীর স্ট্যাম্পিং ছাঁচনির্মাণ প্রক্রিয়াগুলির জন্য উপযুক্ত করে তোলে যেমন হিট এক্সচেঞ্জার ফিনস (ন্যূনতম পিচ 0.8 মিমি) এবং আর্কিটেকচারাল কার্টেন দেয়ালের জন্য মধুচক্র প্যানেল। সমুদ্রের জলের পরিবেশে, ফসফরাস উপাদান একটি ঘন প্রতিরক্ষামূলক ফিল্ম গঠন করে এবং এর জারা প্রতিরোধের সি 10100 এর চেয়ে 3 গুণ বেশি, এটি অফশোর প্ল্যাটফর্মগুলির জন্য কোরবানিযুক্ত অ্যানোডগুলির জন্য একটি আদর্শ উপাদান হিসাবে তৈরি করে।
মূল পারফরম্যান্স তুলনা:
পরিবাহিতা: সি 10100 (101.5% আইএসিএস) সি 10200 (100.2% আইএসিএস) এর চেয়ে কিছুটা ভাল, তবে উভয়ই প্রচলিত তামা ভায়োলেট (98% আইএসিএস) এর চেয়ে অনেক উচ্চতর।
মেশিনিবিলিটি: সি 10100 (200-230 এমপিএ) এর চেয়ে 10% উচ্চতর, দীর্ঘায়নের (40% -45%) 5% বেশি, জটিল বিকৃতকরণ প্রক্রিয়াজাতকরণের জন্য আরও উপযুক্ত, এর চেয়ে সি 10200 টেনসিল শক্তি (220-250 এমপিএ)।
Ld ালাইযোগ্যতা: সি 1 0 200 ফসফরাস সামগ্রী হাইড্রোজেন এম্ব্রিটমেন্টের প্রবণতা বাধা দেয়, লেজার ওয়েল্ডিং পোরোসিটি 0.5%এর চেয়ে কম বা সমান, সি 10100 2%এর চেয়ে ভাল।
অ্যাপ্লিকেশন দৃশ্য:
সি 10100: কোয়ান্টাম কম্পিউটিং সুপারকন্ডাক্টিং গহ্বর, কণা গ্যাস পেডাল ওয়েভগাইড, উচ্চ-বিশ্বস্ততা অডিও সংযোগকারী।
C10200: 5 জি বেস স্টেশন তাপ সিঙ্ক, হাইড্রোজেন জ্বালানী সেল বাইপোলার প্লেট, পারমাণবিক শক্তি বাষ্প জেনারেটর তাপ স্থানান্তর টিউব।
পরিবেশ সুরক্ষা এবং অর্থনীতি:
উভয়ের পুনর্ব্যবহারের হার 99.5% এ পৌঁছে যায় এবং ইউনিট ভর প্রতি ব্যয়টি রৌপ্য-সন্তানের খাদের তুলনায় 70% কম। C10200 ফসফরাস ডিওক্সিডেশন প্রক্রিয়াটির মাধ্যমে শোধনাগার শক্তি খরচ 20% হ্রাস করে এবং কার্বন নিঃসরণ C10100 এর তুলনায় 15% কম, এটি সবুজ উত্পাদন জন্য একটি মানদণ্ডের উপাদান হিসাবে তৈরি করে।
সংক্ষেপে বলতে গেলে, C10100 এবং C10200 "অতি-বিশুদ্ধতা-চরম পারফরম্যান্স-পরিবেশ-বান্ধব" এর ট্রিনিটির সাথে উচ্চ-তামা উপকরণগুলির প্রয়োগের সীমানাটিকে নতুনভাবে সংজ্ঞায়িত করেছে, কোয়ান্টাম প্রযুক্তি, নতুন শক্তি এবং গভীর-সমুদ্র ইঞ্জিনিয়ারিংয়ের মতো কৌশলগত ক্ষেত্রে অপরিবর্তনীয় মান দেখায় এবং যথাযথতা এবং পরিচ্ছন্নতার বিবর্তনকে প্রচারের মূল উপাদানগুলির মূল উপাদান হয়ে ওঠে। বেসিক উপাদান।
